رأس الماسح الضوئي الجلفانوميتر للنقش العميق 532 نانومتر 1064 نانومتر

جميع المنتجات

آلة الوسم بالليزر UV (105)

آلة التعليم بالليزر المحمولة (22)

نظام الوسم بالليزر الطائر بالأشعة فوق البنفسجية (14)

ليزر DPSS UV (66)

آلة النقش بالليزر البلاستيكية (12)

آلة النقش بالليزر على الزجاج (21)

آلة النقش بالليزر للجلد (4)

آلة وسم المعادن بالليزر (6)

جالفو سكان هيد (33)

ماسح ليزر جالفو (13)

الليزر الأخضر DPSS (4)

الماسح الضوئي CO2 Galvo (4)

قطع غيار ماكينات الليزر (4)

ابن دردش الآن

تفاصيل المنتج:

شروط الدفع والشحن:

الحد الأدنى لكمية:	1
الأسعار:	Please inquire individually
تفاصيل التغليف:	كرتون
وقت التسليم:	في غضون 5 أيام
شروط الدفع:	T / T.
القدرة على العرض:	1000 مجموعة شهريا

اتصل

مفصلة وصف المنتج

طول المرآة:

1064 نانومتر

فتحة واضحة:

10 ملم

سرعة الوسم:

4000 ملم / ثانية

زاوية المسح:

3.5 مراد

تسليط الضوء:

رأس ماسح الجلفانومتر للنقش العميق

رأس الماسح الجلفانومتر لتمييز الألياف بالليزر

1. وصف المنتج

S10NF42L1 هو نظام مسح ثنائي الأبعاد مع بقعة ضوء ساقطة 10 مم ، ويستخدم على نطاق واسع في المعالجة بالليزر ، والنقش بالليزر ، واللحام بالليزر ، والطباعة ثلاثية الأبعاد وغيرها من المجالات
المنتج يدمج نظام المؤازرة وتصنيع المحركات الكهربائية والتصنيع الدقيق في حد ذاته ، مع الأداء العالي والموثوقية العالية ؛
يضمن تصميم الهيكل الفريد أداءً ممتازًا في نقل الحرارة وأداء التدريع.يتم تصنيع كل مكون وفقًا للمعايير الصارمة للانحراف المنخفض والثبات العالي ؛
اعتماد بروتوكول الاتصال العالمي XY2-100 لتلقي الأوامر الرقمية ، وهو قابل للتطبيق على بطاقات مختلفة.

رأس الماسح الضوئي الجلفانوميتر للنقش العميق 532 نانومتر 1064 نانومتر 0

2. المعلمة الفنية

خاصية ديناميكية:
متابعة الخطأ	0.25 مللي ثانية
دريفت 8 ساعات وقت طويل	＜ 30 مراد
نقطة الصفر الانجراف	＜ 15 يراد / ك
كسب الانجراف	＜ 50 جزء في المليون / ك
خاصية كهروضوئية:
فتحة واضحة	10 ملم
زاوية المسح	± 0.35 راد
اللاخطية	3.5 مراد
الملكية الأساسية:
الطول الموجي المرآة	1064 نانومتر
بمناسبة السرعة	4000 مم / ثانية
سرعة التموضع	3 م / ث
متطلبات الطاقة	± 15 فولت تيار مستمر ، 3 أمبير لكل مسار
درجة حرارة العمل	25 ℃ ± 10
بروتوكول الواجهة	XY2-100